光刻膠,又稱為“光致抗蝕劑”,是用于光刻技術的重要載體介質。在光刻系統中,它通過光化學反應將光信息轉化為化學能,從而使微細圖形從掩模版轉移到待處理的基板上。這種關鍵材料在半導體、液晶顯示以及印刷電路板等領域具有廣泛應用。
根據顯影效果的不同,光刻膠可分為正光刻膠和負光刻膠;而根據化學結構差異,則可分為光聚合型、光分解型和光交聯型。在下游應用上,主要有半導體光刻膠、面板光刻膠和PCB光刻膠等類型。
在全球范圍內,高端半導體光刻膠市場主要由日本和美國公司主導,國產替代率相對較低。這一現狀使得半導體光刻膠的自主可控需求更加迫切。目前,國內實現產業化的光刻膠生產企業主要集中在PCB及面板領域,而在半導體領域,尤其是高端品種,仍高度依賴進口。
光刻膠作為技術和資本密集型行業,全球供應市場呈現高度集中的態勢。日本JSR等五家龍頭企業占據了全球87%的市場份額。
隨著光刻膠在半導體、液晶顯示等領域的應用日益廣泛,我國光刻膠產業鏈正逐步完善,展現出強勁的發展勢頭。從上游原材料、中游成品制造到下游應用,我國光刻膠產業鏈的各個環節都在逐步成熟,為市場規模的快速增長提供了有力支撐。
據中研產業研究院《2023-2028年中國光刻膠行業深度分析與發展前景預測報告》顯示,我國光刻膠市場規模持續擴大,由2017年的58.7億元增長至2022年的98.6億元,年均復合增長率達到了10.9%。這一增長趨勢反映出我國光刻膠市場的活力和潛力。

析師預測,未來我國光刻膠市場規模仍將保持穩定增長,預計2023年市場規模將達到109.2億元。這一預測表明,我國光刻膠市場在未來幾年內仍將保持強勁的增長勢頭。
我國光刻膠產業鏈的崛起,得益于政策的大力支持和市場的旺盛需求。隨著技術的不斷突破和產業結構的升級,我國光刻膠行業將迎來更多的發展機遇。同時,國內企業應加大研發投入,提升自主創新能力,加速高端產品的研發和產業化進程,以應對日益激烈的市場競爭。
近年來,光刻膠行業受到各級政府的高度重視和國家產業政策的重點支持。國家陸續出臺了多項政策支持光刻膠行業發展,在政策的大力支持下,我國光刻膠行業正迎來前所未有的發展機遇。

政策支持與推動
中國政府一直在積極鼓勵和推動光刻膠產業的發展。為了突破產業瓶頸,提升半導體行業的競爭力,出臺了一系列政策措施。例如,《國務院關于印發新時期促進集成電路產業和軟件產業高質量發展若干政策的通知》中明確提出,對于包括光刻膠在內的關鍵原材料、零配件生產企業,將給予稅收優惠政策。
外部環境帶來的機遇
近年來,隨著全球貿易環境的變化,尤其是日韓貿易摩擦以及中美貿易摩擦的影響,使得中國更加意識到半導體光刻膠自主可控的重要性。這種外部壓力轉化為國內企業加大自主研發和國產化替代的動力。為了應對潛在的技術出口管制風險,許多中國半導體企業開始尋求材料國產化,為國產光刻膠進入量產產線提供了更多機會,從而加速了光刻膠的研發進程。
國內企業的崛起
隨著國內半導體產業的迅速發展,越來越多的國內企業開始涉足光刻膠市場。南大光電在ArF光刻膠領域取得了顯著進展,并持續推進其產業化進程。晶瑞電材的KrF光刻膠生產及測試線已經基本建成,并積極在ArF高端光刻膠領域尋求突破。此外,徐州博康、東陽華芯等企業也在光刻膠領域加大研發和生產投入,推動中國光刻膠產業的快速發展。
更多行業深度分析,請點擊查看中研普華產業研究院發布的《2023-2028年中國光刻膠行業深度分析與發展前景預測報告》。
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2023-2028年中國光刻膠行業深度分析與發展前景預測報告
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